دانلود مقاله ترجمه شده اثر پوستة SiO2 بر کاهش فعالیت فتوکاتالیستی نانوذرات TiO2 و ZnO

چکیده

در این مطالعه، امکان استفاده از نانوذرات پوسته- مغزی TiO2@SiO2 و ZnO@SiO2 به عنوان عوامل محافظ در برابر تابش UV بررسی شد. SiO2 با استفاده از روش سُل- ژل روی انواع مختلف TiO2 (آناتاز و روتایل) و ZnO پوشش داده شد. خصوصیات نانوذرات سنتز شدة TiO2@SiO2 و ZnO@SiO2 با استفاده از طیف­سنجی UV- مرئی، XRD، SEM و TEM تعیین شد. طیف­ های UV- مرئی جذبی و عبوری نانوذرات پوسته- مغزی اثر بازدارندگی عالی در برابر تابش UV و بیش از %90 عبور در محدوده مرئی را نشان داد. مطالعات XRD و SAED تشکیل پوشش SiO2 آمورف روی نانوذرات TiO2 و ZnO را تأیید کرد. تصاویر FESEM و TEM نشان داد که پوشش SiO2 روی نانوذرات باعث افزایش اندازه آن­ها تا حدود nm 30 شده است. به منظور بررسی قابلیت حفاظت در برابر UV نمونه ­ها، تجزیه فتوکاتالیستی رنگینة Methylene Blue روی نانوذرات TiO2@SiO2 و ZnO@SiO2 انجام شد. فعالیت فتوکاتالیستی هر دو نوع نانوذرات TiO2 تا حدودی کاهش داشت. با این حال، فعالیت فتوکاتالیستی نانوذرات ZnO بعد از پوشش ­دهی با SiO2 بطور کامل از بین رفت.

1-مقدمه

در سال­ های اخیر، افزایش نگرانی در مورد میزان تابش UV دریافتی از نور خورشید باعث افزایش تعداد مطالعات انجام شده در مورد بازدارندگی تابش UV و دیگر امواج خطرناک شده است [1-3]. یک افزایش نسبتاً کم در تابش UV اثر قابل توجهی روی پوست و چشم انسان، زیست کرُه، و تولید اُزُن در سطح زمین دارد. بنابراین، توسعة مواد جایگزین و شفاف محافظ در برابر تابش UV که برای استفاده در پنجره­ ها، لنزها، یا عینک­ ها و ... مناسب باشند ضروری است [2-4].برخی اکسیدهای فلزی به عنوان جاذب­های UV عالی در منسوجات مورد استفاده در فضاهای خارجی و محصولات آرایشی بکار گرفته شده ­اند ...